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Mnナノドットを埋め込んだNi/SiO_x/Ni構造の抵抗変化特性(MOSデバイス・メモリ高性能化-材料・プロセス技術)

56d815fadabfae2eee71dfd7  ·  崇 荒井,晃生 大田,克典 牧原,誠一 宮崎 ·

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